产业链
从上游材料与设备,到设计、制造、封测,再到终端应用。每个环节都连回知识地图上的具体知识点。
材料
衬底、光刻胶、特种气体与化学品等,决定工艺窗口与器件材料体系。
进入这个环节 →设备
光刻、沉积、刻蚀、注入、CMP 与测试设备,是先进制造能力的载体。
进入这个环节 →相关知识点
- 曝光
让掩模产生的衍射级次经过有限数值孔径的投影系统,在晶圆光刻胶中形成可被材料阈值读取的空间光强分布。
- CVD
把气态前驱物输送到晶圆表面,经吸附与化学反应生成固态薄膜并排出副产物的成膜方法。
- PVD
通过蒸发或离子轰击从固体源释放材料,使其跨越低压空间并在晶圆上凝聚成膜的物理传输方法。
- ALD
把互不直接混合的前驱物按脉冲—吹扫顺序送入腔室,利用表面自限制半反应逐周期累积薄膜。
- 刻蚀
在掩模约束下,用液相反应或等离子体中的自由基—离子协同,选择性地移走目标材料并把平面图形转成三维结构。
- 离子注入
把经过质量选择和加速的离子按规定剂量、能量与角度送入晶圆,并由后续退火形成可工作的掺杂剖面。
- CMP
让浆料化学先改变表面可去除性,再由抛光垫、磨粒、压力和相对运动选择性移除高处材料,获得可继续叠层的平面。
- ATE
按测试程序向待测器件施加精确定时的激励并测量响应,完成判定、分档、追踪与量产数据回传的自动化测试系统。
EDA / IP
设计工具与可复用核,支撑从 RTL 到签核的自动化与模块化。
进入这个环节 →设计
Fabless 与 IDM 设计团队把规格转化为可流片版图。
进入这个环节 →制造
Foundry / IDM 晶圆厂完成前道器件与后道互连制造。
进入这个环节 →相关知识点
- 晶圆代工厂
以工艺平台、晶圆厂、设备、制造控制和产能为核心,依据客户设计生产晶圆并交付制造与良率数据的专业服务模式。
- IDM
在同一企业体系内整合产品定义、芯片设计、晶圆制造,并通常延伸到封装测试、销售和质量闭环的半导体经营模式。
- 晶圆
由半导体单晶锭经定向、切片、边缘整形、损伤去除、抛光、清洗和检验得到的圆片衬底。
- 洁净室
通过过滤、循环气流、压差、微环境、材料与人员纪律控制空气悬浮粒子及关键环境变量的制造空间。
- FEOL/BEOL
以器件形成、接触过渡和多层互连为主线组织晶圆制造的FEOL、MOL与BEOL分段坐标。
- 金属互连
由接触、通孔和多层导线把晶体管端口连接成电路,同时承担信号、电源、时钟与片上全局通信。
封测
OSAT 与先进封装把裸片变成可靠、可焊接的产品。
进入这个环节 →相关知识点
- OSAT
以受托制造服务方式承接半导体装配、封装与量产测试,并把裸片转化为可追踪、可连接、可验证产品的专业产业角色。
- 晶圆测试
在晶圆切割前用探针卡逐颗接触芯片焊盘,执行规定测试并生成可追踪良品图。
- 切割
沿划片道把完成测试和背面准备的晶圆分离成裸片,同时控制崩边、裂纹、分层、污染与尺寸误差。
- 引线键合
用金属细线和受控的压力、超声及热能,在裸片焊盘与引线框或基板之间形成两端冶金连接。
- 倒装
把芯片有源面翻向承载体,以焊料或铜柱凸点阵列同时完成机械接合和电气互连的方法。
- 先进封装
通过高密度横向或垂直互连,把多个裸片、晶圆、无源器件和不同工艺平台集成为一个系统级封装的技术集合。
- 可靠性
产品在规定任务时间和使用条件下持续完成规定功能的概率能力,以及围绕失效机制建立的设计、试验、统计与改进闭环。
终端应用
计算、存储、嵌入式与系统场景,是技术价值最终落地的地方。
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