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半导体开放世界

DRAM

Dynamic Random Access Memory也称 动态随机存取存储器、动态RAM、1T1C存储器、dynamic RAM、main memory

以访问晶体管和存储电容保存一位电荷状态、通过位线微小电压差感知并周期刷新,因此用读写时序与刷新代价换取高位密度的易失性随机存储器。

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速览

约 1 分钟

典型DRAM单元只有一个访问晶体管和一个电容(1T1C)。字线打开后,单元电容与已预充的位线共享电荷,灵敏放大器把很小的电压差再生为完整逻辑电平并回写原数据。电荷会因结、晶体管和电容介质漏电逐渐消失,所以控制器必须在数据失效前刷新各行。

系统理解

约 3 分钟

DRAM的最小信息对象不是“0或1电压源”,而是有限电容上的电荷。写入时,写驱动器把位线置为目标电平并拉高字线,经访问晶体管给单元电容充电或放电;保持时字线关闭,数据能保留多久取决于单元电容、多个漏电通道、温度、偏置、工艺分布和邻近活动。

读取前,成对位线通常被预充并均衡到共同参考电平。选中行后,单元电容与远大于它的位线寄生电容共享电荷,只形成几十毫伏量级的差分信号;交叉耦合灵敏放大器将其再生到完整电源轨。由于共享电荷改变了单元节点,经典1T1C读取具有破坏性,感放在字线仍开启时同时完成恢复,随后位线预充才能进入下一行周期。

芯片把单元组织为子阵列、行与列,并配置行译码、字线驱动、位线、灵敏放大器、列选择、行缓冲和I/O。激活行、等待感知、列读写、写恢复、预充电和刷新占用不同内部资源,因此随机访问延迟不能只看I/O传输率。DDR通过双沿传输、预取和并行银行提高接口带宽,但不会把单元感知、恢复和预充时间按同倍数缩短。

高密度来自1T1C小单元和规则阵列,代价是专用电容工艺、严格感知裕量以及刷新功耗。缩放时必须在较大单元电容、较小位线电容、低漏电访问管、短RC、可制造三维电容和软错误/扰动裕量之间联合权衡;堆叠/HBM提高封装级并行带宽,也不改变每个DRAM阵列的基本电荷存储与刷新机制。

承接MOSFET、MOS电容、数字逻辑和芯片架构,向上连接CPU/GPU主存、DDR/HBM接口、先进封装、可靠性与系统性能。

公式提示

单元电荷近似为Q=Ccell·Vcell。若位线预充到Vpre,理想电荷共享后的位线变化可写为ΔV≈[Ccell/(Ccell+Cbit)]·(Vcell−Vpre);实际感知还受访问管压降、漏电、噪声、失配、耦合和温度影响。

关键参数

关键参数
参数单位含义
单元电容 Ccell 与位线电容 CbitF其比值决定初始感知信号,同时约束密度、三维电容工艺与位线长度
保持/刷新时间s由最差单元在规定温度、偏置和活动条件下的数据保持分布决定
tRCD、tRP、tRC 与写恢复s分别约束激活到列访问、预充电、完整行周期及写后恢复,不能与接口数据率混为一谈
行命中率、银行并行度与有效带宽—控制器访问顺序和并发决定阵列内部时序能否被隐藏并转化为有用吞吐
漏电、温度与扰动裕量—决定尾部保持时间、刷新开销、误码和可靠性验证范围

常见误区

  • 认为DRAM的随机存取意味着所有地址都能在同一时间完成
  • 认为读取只观察电容而不改变数据,因此不需要感放恢复
  • 认为刷新是把所有位直接重写一次,或只刷新刚读过的数据
  • 认为更高DDR数据率会按相同比例降低随机访问延迟
  • 认为64 ms等刷新数值是所有器件、温度和工作模式下不变的材料常数

工程深入

16 条结论 · 3 道例题

电荷存储与定义边界

定义

DRAM以可衰减电荷状态保存数据

DRAM把信息映射为存储节点上的电荷状态;断电后状态消失,通电保持期间也会因漏电衰减,因此“动态”指必须周期恢复而不是数据内容自动变化。12

成立条件 经典高密度DRAM以1T1C为主;增益单元和嵌入式实现可采用不同晶体管数量

机制

1T1C单元用字线隔离、用位线传送电荷

访问晶体管的栅由字线控制,一端接位线,另一端接存储电容;字线关闭时单元与位线隔离,字线开启时才允许写入、读取或恢复电荷。13

成立条件 电容另一电极接公共板电位,具体偏置随实现而定;访问管并非理想开关,阈值、漏电和电阻都进入裕量

MOSFET 组成:DRAM访问晶体管是控制单元与位线连通的MOS器件。
MOS电容 组成:存储电容把有限电荷转换为可感知的电压状态。

写入、读取与恢复

机制

写入由位线驱动并经访问管给单元充放电

写驱动器先把位线置于目标逻辑电平,再激活字线,使存储节点向目标电荷状态收敛;写结束前必须给访问管和单元足够时间完成恢复。13

成立条件 写“1”可能需要提升字线以补偿nMOS阈值损失;写恢复时间随电压、温度、单元和阵列负载变化

公式

读取信号来自单元与位线的电荷共享

位线预充到参考电平后接入单元,理想电荷守恒给出位线初始变化;当位线电容远大于单元电容时,感知信号天然很小。123

ΔV ≈ [Ccell / (Ccell + Cbit)] · (Vcell − Vpre)

Ccell
单元存储电容,单位 F
Cbit
位线及所连单元的等效寄生电容,单位 F
Vcell
读取前存储节点电压,单位 V
Vpre
位线预充参考电压,单位 V

成立条件 忽略访问管压降、共享板电容、漏电和耦合;Vpre通常取中间参考但不是所有实现的唯一选择

例题:动手算一次教学假设,可复算

若教学假设中Ccell=30 fF、Cbit=300 fF,单元存“1”时Vcell=1.0 V,位线预充到Vpre=0.5 V,理想电荷共享后位线初始变化有多大?

已知

  1. Ccell=30 fF
  2. Cbit=300 fF
  3. Vcell−Vpre=0.5 V
  4. 暂不计访问管压降、漏电、失配与耦合

步骤

  1. Ccell/(Ccell+Cbit)=30/(30+300)=0.0909,单元电容只占共享总电容约9.09%
  2. ΔV≈0.0909×0.5 V=0.0455 V,把单元与预充电平之差按电容比缩小
结果 位线初始变化约45.5 mV。

感放面对的是几十毫伏量级的小差分,而不是完整逻辑摆幅;这解释了预充、失调、噪声与启用时刻为何关键。

不能外推到 这是理想单元—位线电荷守恒示例,不能直接替代具体阵列的SPICE、PVT、耦合和感放失调仿真。

机制

灵敏放大器把微小差分再生为完整逻辑电平

交叉耦合感放比较真实位线与参考位线的微小差异,并用正反馈把一侧拉高、另一侧拉低;失调、噪声和启用时机必须小于可用感知裕量。13

成立条件 感放启用过早可能放大噪声或失调;折叠/开式位线结构的参考与耦合环境不同

边界

经典1T1C读取具有破坏性并必须原位恢复

电荷共享已经改变存储节点,不能把读取理解为无扰观察;感放完成判决后,在字线仍开启时把完整电平送回单元,随后才能关闭行并预充位线。123

成立条件 恢复是激活行内部操作,不等于主机再次发送写命令;若感知或恢复被打断,原数据可能丢失

保持、漏电与刷新

机制

多条漏电路径共同限定保持时间

存储电荷可经结反偏漏电、访问管亚阈值/GIDL以及电容介质缺陷泄漏;任何一项随温度、偏置或缺陷增大,都可能缩短最弱单元的保持时间。12

成立条件 漏电方向与存储状态、邻线活动和体偏置有关;平均单元不能代表尾部分布

可靠性 影响:保持尾部、温度和活动相关扰动共同决定DRAM误码风险。
公式

可用保持时间由电荷预算除以净漏电决定

在近似恒定净漏电下,允许损失的电荷越大、单元电容越大,保持时间越长;该式用于建立方向性,不代替随电压、温度和时间变化的器件分布。12

tret ≈ Ccell · (Vinitial − Vmin) / Ileak

tret
近似保持时间,单位 s
Vinitial
恢复后的初始存储电压,单位 V
Vmin
仍可可靠感知的最低存储电压,单位 V
Ileak
净电荷损失电流,单位 A

成立条件 净漏电不一定恒定且可能随状态改变;最低可辨电压由感放、噪声和失配共同决定

例题:动手算一次教学假设,可复算

若教学单元的Ccell=30 fF,可容许电压下降0.20 V,近似净漏电为100 fA,方向性保持时间是多少?

已知

  1. Ccell=30 fF=30×10⁻¹⁵ F
  2. Vinitial−Vmin=0.20 V
  3. Ileak=100 fA=1×10⁻¹³ A
  4. 把净漏电暂视为常数

步骤

  1. ΔQ=Ccell·ΔV=30×10⁻¹⁵×0.20=6×10⁻¹⁵ C,先求感知裕量允许损失的电荷
  2. tret≈ΔQ/Ileak=6×10⁻¹⁵/(1×10⁻¹³)=0.060 s,用电荷预算除以净漏电
结果 方向性保持时间约60 ms。

该数量级说明刷新窗口必须由尾部单元和最坏环境决定;只把平均漏电代入会高估最弱单元。

不能外推到 100 fA和30 fF都是教学假设;真实漏电随电压、温度、数据状态、工艺和邻近活动变化,60 ms不是产品刷新规格。

机制

刷新按行调度读取并恢复全部单元

控制逻辑必须在规定刷新窗口内依次激活各行,利用感放完成读取和回写;刷新占用阵列时间并消耗动态与待机能量。12

成立条件 刷新粒度、命令和温度策略由具体器件规范定义;刷新期间可用银行和并发能力依架构而变

边界

刷新周期必须覆盖最弱单元和最坏环境

保持时间在单元间呈分布且随温度、偏置和活动改变,刷新设计不能用平均值;教材中的64 ms等示例必须绑定相应规范、温度与器件条件。12

成立条件 不同代际和工作模式可能采用不同刷新窗口;高温通常要求更保守的刷新策略

阵列组织与时序

机制

子阵列把长字线和位线分段以控制RC与感知裕量

大量单元按行列组成子阵列,每个子阵列配置字线驱动、位线和感放,再由列选择和全局I/O汇聚;分段可缩短局部RC,却增加外围面积和层级选择。13

成立条件 开式和折叠位线在密度、噪声与感放放置上不同;更多子阵列不一定提高有效容量效率

机制

激活、列访问、恢复与预充构成一次行访问闭环

激活选中字线并等待电荷共享和感放,列命令从已打开的行缓冲读写部分数据,随后恢复和预充关闭该行;tRCD、写恢复、tRP和tRC分别约束不同阶段。13

成立条件 具体命令名和数值由接口代际与器件规范定义;同一行后续列访问可复用已打开行而具有不同延迟

边界

随机存取只表示地址可寻址,不表示等时访问

任意行列可由译码选择,但行命中、行冲突、银行忙、刷新和时序约束会让不同请求的完成时间不同;“随机”不能翻译成恒定延迟。13

成立条件 控制器策略和访问局部性会改变观测延迟;端到端延迟还包含队列、互连和缓存

接口带宽与系统边界

边界

DDR数据率提高接口吞吐而非同比缩短核心延迟

双沿传输、预取和串并转换让I/O引脚以高于内部阵列节拍的数据率传输突发数据;单元感知、恢复、预充和刷新仍受内部模拟与RC时序限制。1

成立条件 带宽需按通道宽度、传输率和有效利用率计算;协议代际、LPDDR、GDDR和HBM的组织不同

CPU 用于:CPU内存控制器在DRAM时序约束下调度行、银行和通道。
GPU 用于:GPU以大量并发和宽接口利用DRAM带宽,但仍受访问合并和阵列时序限制。

工艺缩放与密度代价

机制

三维电容用垂直面积守住电荷与感知裕量

单元横向面积缩小时,沟槽或堆叠电容通过深宽比、内外表面和高k介质维持所需电容;密度收益会转化为刻蚀、沉积、缺陷、接触和形貌控制难度。123

成立条件 更薄EOT不能以不可接受的介质漏电为代价;电容目标随位线电容、噪声和刷新策略共同变化

刻蚀 用于:高深宽比沟槽和三维电容结构依赖受控刻蚀。
ALD 用于:三维电容介质与电极需要高度共形的薄膜沉积。
关联

HBM与堆叠改变并行接口,不改变DRAM单元基本物理

TSV、宽I/O和多裸片堆叠可增加并行通道并缩短封装互连,但每个阵列仍需完成1T1C感知、恢复、预充和刷新;封装带宽不能替代单元与时序设计。13

Braw = Rpin · Npin / 8;Beff = η · Braw

Braw
接口理论原始带宽,单位 B/s
Rpin
每个数据引脚传输率,单位 bit/s
Npin
并行数据引脚数
η
命令、空闲、刷新与访问效率合成后的有效利用率
Beff
假设利用率下的有效带宽,单位 B/s

成立条件 堆叠会新增热、供电、良率和已知良品约束;HBM参数必须绑定具体代际与系统实现

例题:动手算一次教学假设,可复算

假设一个教学用宽接口有1024个数据引脚、每引脚4 Gb/s,工作负载与协议综合利用率取75%,理论与有效带宽分别是多少?

已知

  1. Npin=1024 bit
  2. Rpin=4 Gb/s
  3. η=75%
  4. 只计算单向数据通路,不加入容量或随机访问延迟

步骤

  1. Braw=4×1024/8=512 GB/s,先把并行比特率除以8换算为字节率
  2. Beff=0.75×512=384 GB/s,用教学利用率扣除命令、空闲、刷新和访问不连续
结果 理论原始带宽512 GB/s;假设有效带宽384 GB/s。

宽接口可以显著提高吞吐,但75%的利用率不会自动成立,且该计算没有缩短1T1C感知、恢复和预充过程。

不能外推到 1024 bit、4 Gb/s和75%均为教学假设,不代表任一HBM代际、厂商器件或完整GPU系统的正式规格。

先进封装 用于:HBM用TSV、微凸点和中介层等封装结构把多个DRAM裸片接入宽接口。

出处

3 本教材 · 6 处引用
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    半导体存储器件与电路

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