设备

让掩模产生的衍射级次经过有限数值孔径的投影系统，在晶圆光刻胶中形成可被材料阈值读取的空间光强分布。

把气态前驱物输送到晶圆表面，经吸附与化学反应生成固态薄膜并排出副产物的成膜方法。

通过蒸发或离子轰击从固体源释放材料，使其跨越低压空间并在晶圆上凝聚成膜的物理传输方法。

在掩模约束下，用液相反应或等离子体中的自由基—离子协同，选择性地移走目标材料并把平面图形转成三维结构。

把经过质量选择和加速的离子按规定剂量、能量与角度送入晶圆，并由后续退火形成可工作的掺杂剖面。

让浆料化学先改变表面可去除性，再由抛光垫、磨粒、压力和相对运动选择性移除高处材料，获得可继续叠层的平面。

把互不直接混合的前驱物按脉冲—吹扫顺序送入腔室，利用表面自限制半反应逐周期累积薄膜。

按测试程序向待测器件施加精确定时的激励并测量响应，完成判定、分档、追踪与量产数据回传的自动化测试系统。