上游支撑
设计
制造交付
应用落地
衬底、光刻胶、特种气体与化学品等,决定工艺窗口与器件材料体系。
把特定杂质置入半导体并使其电活化,以可控改变费米能级、平衡载流子浓度和空间电荷。
整个倒空间中最低导带态与最高价带态之间的最小能量差。
由半导体单晶锭经定向、切片、边缘整形、损伤去除、抛光、清洗和检验得到的圆片衬底。
以籽晶为结构模板,把高纯多晶硅转化为具有连续晶格取向、受控掺杂和可加工直径的硅锭。
把空间光强分布转化为显影溶解速率差,并在晶圆上形成可承受后续刻蚀或注入的三维聚合物图形。