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半导体开放世界
第 1 环 · 上游支撑

材料

衬底、光刻胶、特种气体与化学品等,决定工艺窗口与器件材料体系。

数学、物理与材料基础

  • 掺杂

    把特定杂质置入半导体并使其电活化,以可控改变费米能级、平衡载流子浓度和空间电荷。

    基础
  • 禁带宽度

    整个倒空间中最低导带态与最高价带态之间的最小能量差。

    基础

晶圆制造

  • 晶圆

    由半导体单晶锭经定向、切片、边缘整形、损伤去除、抛光、清洗和检验得到的圆片衬底。

    入门
  • 单晶硅

    以籽晶为结构模板,把高纯多晶硅转化为具有连续晶格取向、受控掺杂和可加工直径的硅锭。

    基础
  • 光刻胶

    把空间光强分布转化为显影溶解速率差,并在晶圆上形成可承受后续刻蚀或注入的三维聚合物图形。

    基础