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半导体开放世界

本征半导体

Intrinsic Semiconductor也称 本征、本征材料、i-type、intrinsic material、undoped semiconductor

没有有效外来掺杂主导导电、热平衡电子与空穴成对产生且浓度相等的半导体状态。

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速览

约 1 分钟

本征半导体不是绝对没有杂质,而是自由载流子主要由材料自身的带间热激发决定。每当一个价带电子进入导带,就同时留下一个空穴,因此热平衡时 n=p=nᵢ;温度越高、禁带越窄,本征浓度通常越大。

系统理解

约 2 分钟

本征首先是一种电学状态,而不是实验上绝对纯净的承诺。理想模型假定不存在足以改变平衡载流子统计的施主、受主和带隙内缺陷;有限温度下,晶格热运动使少量价带电子获得能量进入导带,同时在价带留下等量空穴。电中性因此给出 n=p,二者共同定义本征载流子浓度 nᵢ。

在非简并、带边近似抛物线的条件下,nᵢ由导带和价带有效状态密度的几何平均以及 exp(−Eg/2kT) 决定。有效状态密度本身随温度和有效质量变化,Eg 也随温度变化,所以不能把室温下的一个 nᵢ 数值直接搬到其他温度。由于 Nc 与 Nv 往往不同,本征费米能级通常接近但不必严格位于禁带正中央。

当温度足够高时,即使样品已经掺杂,本征激发也可能超过净掺杂贡献,材料重新进入本征主导区;低温则可能出现杂质冻结。实际器件通常工作在杂质主导的中间温区,但耗尽区漏电、高温失效和宽禁带材料优势都必须以本征浓度为基准理解。

本征半导体把禁带、费米统计和电子—空穴对连接起来,并作为判断掺杂、漏电与高温极限的共同基准。

关键参数

关键参数
参数单位含义
本征载流子浓度 nᵢcm⁻³热平衡本征状态下相等的电子和空穴浓度。
本征费米能级 EᵢeV使 n=p 的化学势位置,通常接近禁带中部。
禁带宽度 EgeV通过指数因子强烈控制本征激发难易。
绝对温度 TK同时影响热激发、有效状态密度和带隙。

常见误区

  • 把本征半导体理解为完全没有任何杂质和缺陷
  • 把本征等同于没有电子、空穴或完全不导电
  • 认为本征费米能级在所有材料中都严格位于禁带中点
  • 把室温 nᵢ 当成不随温度和带隙变化的材料常数
  • 认为掺杂材料在任何温度下都必然由杂质载流子主导

工程深入

12 条结论

定义与电中性

定义

本征状态由材料和温度建立

本征半导体没有以改变导电性质为目的的有效掺杂,热平衡载流子主要来自跨越禁带的本征激发;电子和空穴成对产生,因此浓度相等。12

n = p = nᵢ

n
电子浓度,单位 cm⁻³
p
空穴浓度,单位 cm⁻³
nᵢ
本征载流子浓度,单位 cm⁻³

成立条件 热平衡;理想本征模型;实际材料仍可能含不影响主导导电行为的残余杂质和缺陷

掺杂 对比:掺杂半导体以杂质提供的多数载流子改变本征平衡。
边界

本征描述电学主导机制而不是绝对化学纯度

实际晶体不可能完全没有杂质和缺陷;只要外来施主、受主和缺陷电荷不足以主导平衡载流子统计,材料仍可在指定温度范围内按本征状态处理。34

成立条件 必须同时说明材料、温度和缺陷背景;残余杂质是否可忽略取决于其电离程度与本征浓度

本征载流子从何而来

机制

带间热激发按电子—空穴对产生载流子

价带电子获得足够热能进入导带时,导带增加一个电子,价带同时留下一个空穴;在没有净外部电荷注入的本征体材料中,两类自由载流子的增量相等。14

成立条件 讨论带间本征激发;杂质电离和外部注入需另行计入电荷来源

电子与空穴 组成:本征导电由成对产生的电子和空穴共同承担。
机制

热平衡浓度恒定不表示产生与复合停止

热平衡时电子—空穴对仍持续产生和复合,只是两种速率相等,使宏观 n 与 p 保持不变;平衡是动态统计平衡而不是微观静止。13

成立条件 温度和外界条件稳定;光照、注入或偏置会使产生率与复合率失衡

复合与产生 后续:非平衡恢复由产生—复合动力学决定。

本征浓度与温度

公式

本征浓度对禁带和温度呈指数敏感

在非简并统计模型中,本征载流子浓度随温度升高而快速增加,并随禁带宽度增大而指数降低。12

nᵢ = √(N꜀Nᵥ) · exp(−Eɢ / 2kT)

N꜀
导带有效状态密度,单位 cm⁻³
Nᵥ
价带有效状态密度,单位 cm⁻³
Eɢ
禁带宽度,单位 eV
T
绝对温度,单位 K

成立条件 热平衡、非简并近似;有效状态密度本身也随温度和材料参数变化

禁带宽度 影响:同温度下,更宽的禁带通常对应更低的本征载流子浓度。
公式

有效状态密度使本征浓度还包含温度幂律

带边抛物线与非简并近似下,Nc和Nv都近似随T的3/2次方变化,因此ni除禁带指数项外还带有约T的3/2次方前因子。134

N꜀, Nᵥ ∝ T³ᐟ²;nᵢ ∝ T³ᐟ² exp(−Eɢ/2kT)

N꜀、Nᵥ
导带、价带有效状态密度,单位 cm⁻³
T
绝对温度,单位 K

成立条件 三维体材料、带边近似抛物线;有效质量和能谷简并近似不随温度剧烈变化

本征费米能级

公式

本征费米能级通常接近但不严格等于禁带中点

令本征状态下n=p,并代入非简并电子、空穴浓度式,可得Ei在禁带中点基础上增加由Nc与Nv不对称产生的修正项。14

Eᵢ = (E꜀+Eᵥ)/2 + (kT/2) ln(Nᵥ/N꜀)

Eᵢ
本征费米能级,单位 eV

成立条件 热平衡、非简并;带边状态密度可以用Nc和Nv概括

费米能级 用于:本征费米能级是判断n型或p型偏移的参照。
边界

接近中点是近似结果而不是定义

只有当Nc与Nv近似相等时,Ei才落在几何禁带中点;电子与空穴状态密度质量不同会使Ei产生约kT量级的偏移。34

成立条件 材料、温度和能带结构会改变修正项;不要用图形居中位置代替数值计算

工程边界与材料比较

机制

高温会使掺杂材料转入本征主导区

随着温度升高,ni快速增加;当ni与净掺杂量相当或更大时,电子和空穴都不能再由单一掺杂类型近似,材料进入本征主导区。34

成立条件 转变温度依赖材料带隙和实际净掺杂;带隙本身的温度变化也应计入

掺杂 对比:杂质主导只在特定温区成立。
公式

本征浓度给出热平衡总载流子的下限

由热平衡np=ni²和算术—几何平均关系可得n+p不小于2ni,且只有本征条件n=p时取到最小值。14

n + p ≥ 2√(np) = 2nᵢ

n+p
热平衡自由电子与空穴总浓度,单位 cm⁻³

成立条件 热平衡且质量作用关系适用;强简并时需使用更完整统计

关联

宽禁带通过压低本征浓度扩展高温潜力

同温度和相近状态密度尺度下,更大的Eg使ni指数降低,因此宽禁带材料通常具有更低本征漏电和更高本征导电温度上限。14

成立条件 这只是材料潜力,不包含缺陷、界面、接触和热管理限制;比较数值必须注明温度和材料相态

禁带宽度 影响:Eg通过指数项控制本征激发。
边界

n=p不是所有非平衡电子—空穴对的充分条件

光照可在某些条件下产生近似相等的过剩电子和空穴,但样品仍可能含有掺杂背景,且总浓度、准费米能级和复合动力学不同于热平衡本征状态。12

成立条件 区分平衡浓度与过剩浓度;本征状态定义还需要材料背景与热平衡条件

出处

4 本教材 · 11 处引用
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    半导体物理学(第8版)

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