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半导体开放世界

温度冲击与高低温存储可靠性

Temperature Shock and High/Low-Temperature Storage Reliability(TST / HTSL / LTSL)也称 温度冲击、热冲击、高温存储、低温存储、HTSL、LTSL、无偏存储

温度冲击用快速冷热转换激发材料热膨胀失配,存储试验则在无电偏置下检验高温化学老化或低温材料稳定性,三者必须分开定义与解释。

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速览

约 1 分钟

温度冲击关注温差、驻留和转换速度造成的热机械应变;高低温存储关注器件在不通电条件下长期暴露后的材料与参数变化。箱体达到设定温度不代表样品内部已经稳定,循环数也不能直接换算成现场寿命。

系统理解

约 3 分钟

封装中的硅、铜、铝、焊料、烧结层、陶瓷、模封料和基板具有不同热膨胀系数。温度改变时,自由热应变近似Δε=Δα·ΔT;实际结构因约束产生剪切、剥离和局部塑性应变。快速转换会形成内部温度梯度,使界面应力不同于缓慢温度循环。

温度冲击通常在冷热两环境间快速转移,关键条件包括高低温极值、空气或液体介质、转换时间、两端驻留、循环数、负载方向和样品实际温度。驻留应根据样品达到规定温度或标准定义确定,不能只用空箱稳定时间。主要风险包括焊点/烧结层疲劳、分层、陶瓷或芯片裂纹、键合和端子损伤。

高温存储在无电偏置下加速扩散、氧化、金属间化合物生长、聚合物老化和界面反应;低温存储可暴露脆化、收缩失配、密封或材料相变问题。没有偏置意味着它们不能替代HTRB、HTGB、H3TRB或通电功率循环。Arrhenius外推只有在同一主导机制和已知活化能下才成立。

试验应记录样品状态、介质、温度校准、负载板/包装、转移时间、驻留判据、循环或时长及中间读点。电参数、外观、声学扫描、X射线和热阻变化用于区分电学漂移与结构损伤;凝露、吸湿或霜冻若非规定应力,应通过露点和转移流程控制。

承接机械环境、先进封装和结温热阻,向后连接功率循环、偏压湿热、失效分析、仓储运输与整机环境资格。

公式提示

自由热失配应变可作一阶估算Δε≈(α1−α2)ΔT;实际应力还受弹塑性、几何、温度梯度、蠕变与界面约束影响,不能由该式直接预测循环寿命。

关键参数

关键参数
参数单位含义
Tlow、Thigh与ΔT°C / K定义温度窗口和热失配幅值
转换时间、驻留与循环数s / min / cycle决定温度梯度、稳定程度和累积应力
介质与样品实际温度— / °C区分空气、液体及箱温和样品温度
存储温度、时长与中间读点°C / h限定无偏材料老化证据
分层、裂纹、Rth和参数漂移% / μm / K·W⁻¹形成结构与电学联合判据

常见误区

  • 把温度冲击等同于环境温度循环或功率循环
  • 用箱体温度代替样品内部温度
  • 把高温存储通过当作高温通电可靠性通过
  • 任意选活化能做Arrhenius寿命外推
  • 忽略凝露和介质差异直接比较循环数

工程深入

12 条结论 · 1 道例题

试验分类

定义

温度冲击以快速冷热转换施加热机械应力

试验用温度极值、转换时间、驻留、介质和循环数定义,重点考查热膨胀失配与温度梯度。12

成立条件 样品实际温度可确认;转换和驻留符合适用规范

定义

高低温存储是不加电的材料稳定性试验

HTSL和LTSL在规定温度与时长下保存未偏置样品,再用中间和终点测量评价材料及参数变化。13

成立条件 器件不施加工作偏压;包装和样品状态记录

热机械机理

机制

热膨胀失配把温差转成界面应变

不同材料若被粘接或约束,自由热应变差会在焊层、烧结层、陶瓷和模封界面产生剪切与剥离。12

成立条件 材料CTE和温度区间已知;几何约束存在

机制

快速转换产生内部温度梯度

表面先于内部升降温会造成瞬态弯曲和局部应力,使温度冲击与慢速温循即使极值相同也不完全等价。14

成立条件 样品具有有限热扩散时间;介质换热条件明确

试验控制

边界

箱体稳定不等于样品达到驻留温度

样品质量、封装、负载板和空气或液体换热会造成滞后,驻留判据应依据样品或适用标准而非空箱显示。14

成立条件 温度传感器位置有代表性;热负载与正式试验一致

失效模式

机制

温度冲击可引起裂纹分层与互连疲劳

反复失配应变会损伤芯片、陶瓷、焊点、烧结层、键合、端子和模封界面,并可能表现为Rth或电阻先漂移。12

成立条件 循环窗口足以激活目标机制;用无损和参数趋势互证

存储机理

机制

高温存储加速无偏化学与扩散过程

氧化、金属间化合物生长、聚合物老化和界面反应可在无电场条件下加快,但不覆盖高场偏置机制。13

成立条件 主导机制在温区内不改变;与偏压试验分开解释

边界

低温存储不能由高温存储外推

低温可能激活脆化、收缩失配、密封和材料相变问题,与高温扩散氧化的主导机制不同。14

成立条件 材料低温相态已知;恢复和测量流程规定

外推边界

边界

Arrhenius只可加速同一主导机制

活化能、温度范围或材料状态不确定时,把HTSL时长直接换算成现场年限会形成虚假精度。13

成立条件 同一失效机制有证据;活化能来自适用数据

概念边界

边界

温度冲击不能替代功率循环

前者由外部环境改变整体温度,后者由芯片损耗主动加热并形成不同梯度和受力界面。12

成立条件 热源位置与循环时间明确;失效模式分别验证

测试真实性

边界

非规定凝露会混入湿气失效

冷热转移跨越露点时可能产生水膜、霜冻或离子导电,必须区分目标热应力与意外湿热应力。14

成立条件 露点与转移路径记录;若允许凝露则单独声明

失配应变尺度

公式

十二ppm每开尔文的CTE差跨一百九十开尔文产生约零点二二八百分比自由失配应变

教学例只给无约束线弹性几何尺度,不直接等于真实界面应力或寿命。12

Δε≈ΔαΔT=12×10⁻⁶×190=0.00228=0.228%

Δε
自由热失配应变,单位 1

成立条件 Δα=12 ppm/K;ΔT=190 K;自由均匀热应变近似

例题:动手算一次教学假设,可复算

两种材料CTE相差12 ppm/K,经历190 K温差时自由失配应变约多少?

已知

  1. Δα=12 ppm/K
  2. ΔT=190 K

步骤

  1. 12 ppm/K=12×10⁻⁶ K⁻¹,换算CTE差。
  2. Δε=12×10⁻⁶×190=0.00228,乘以温差。
  3. 0.00228×100%=0.228%,换算百分比。
结果 约0.228%。

较大温窗可累积显著界面失配。

不能外推到 真实应力受模量、塑性、蠕变、几何、梯度和约束影响。

出处

4 份资料 · 4 处引用
  1. 1
  2. 2

    Qualification tests and standards conducted for Infineon IGBT modules

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  3. 3

    AEC-Q101 Rev. E: Failure Mechanism Based Stress Test Qualification for Discrete Semiconductors

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  4. 4

    NASA-STD-7002B with Change 1: Payload Test Requirements

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