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半导体开放世界

异质结能带偏移与界面对齐

Heterojunction Band Offsets and Interface Alignment也称 异质结带阶、异质界面能带对齐

先固定材料顺序和能量符号,再区分带阶、弯曲与真实界面条件。

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速览

约 1 分钟

带阶描述两种材料在界面上的带边连接,不等于内建势。不同教材的价带正方向可能相反;电子亲和近似也不能代替真实界面偏移证据。

系统理解

约 2 分钟

先选择统一电子能量纵轴,分别标出局部导带底和价带顶,核对有向偏移与带隙差的恒等关系。随后把两侧弯曲交给静电与载流子统计,而不是塞进一个偏移数字。

I、II、III型按带边相对位置分类;实际参数还须携带组分、温度、应变和界面状态。没有这些条件的材料常数拼图,只能是初步模型,不能冒充特定样品的实测能带。

复用既有HEMT、二维电子气、LED和QWIP应用;本节点只补材料对齐与跨界模型的共同基础。

关键参数

关键参数
参数单位含义
有向带阶eV界面2减界面1的导带或价带能量差
材料与应变1组分、晶向、赝晶或松弛状态
界面电荷C/m²进入静电边界的面电荷密度

常见误区

  • 价带阶的正号在所有教材中含义相同。
  • 电子亲和能相减就是任意界面的精确实测带阶。
  • 远端能带高低差就是局部界面偏移。

工程深入

12 条结论 · 1 道例题

定义与符号

公式

带阶必须先写清材料顺序和价带正负号

本节点统一定义ΔEc=Ec2−Ec1、ΔEv=Ev2−Ev1,二者都是从材料1指向材料2的电子能量差;因此ΔEc−ΔEv=Eg2−Eg1。把价带偏移定义为Ev1−Ev2的教材会写成两带阶相加,不能直接混用。12

ΔEc=Ec2−Ec1,ΔEv=Ev2−Ev1,ΔEc−ΔEv=Eg2−Eg1\Delta E_c=E_{c2}-E_{c1},\quad\Delta E_v=E_{v2}-E_{v1},\quad\Delta E_c-\Delta E_v=E_{g2}-E_{g1}
ΔEc = Ec2−Ec1;ΔEv = Ev2−Ev1;ΔEc−ΔEv = Eg2−Eg1
ΔEc\Delta E_c
从材料1到2的导带电子能量差单位 eV
ΔEv\Delta E_v
从材料1到2的价带电子能量差单位 eV
Ec1E_{c1}
材料1界面侧导带底单位 eV
Ec2E_{c2}
材料2界面侧导带底单位 eV
Ev1E_{v1}
材料1界面侧价带顶单位 eV
Ev2E_{v2}
材料2界面侧价带顶单位 eV
Eg1E_{g1}
材料1局部带隙单位 eV
Eg2E_{g2}
材料2局部带隙单位 eV

成立条件 比较的是界面两侧局部带边,不是两个远端的弯曲总量;能量统一用eV或J;下标1、2不随p/n类型偷偷交换

例题:动手算一次教学假设,可复算

教学能带中Eg1=1.40 eV、Eg2=1.90 eV,按本节点方向ΔEc=0.30 eV,求ΔEv;若采用反向价带势垒记号又是多少?

已知

  • 材料顺序固定1→2
  • 带隙差0.50 eV
  • 导带向上0.30 eV

步骤

  1. ΔEv=0.30−(1.90−1.40)=−0.20 eV价带也按2减1定义。
  2. Ev1−Ev2=+0.20 eV;0.30+0.20=0.50 eV换成教材反向价带记号后可用和式。
结果 同向ΔEv=−0.20 eV;反向价带势垒为+0.20 eV。

同一能带不是物理矛盾,而是两种符号口径。

适用边界 虚构教学参数,不代表任何材料对的实验偏移。

边界

电子亲和近似不是界面偏移的精确实验定律

真空参考的电子亲和规则可用于构造理想能带初图,但Sze明确指出其对导带偏移并非总有效;实际界面应采用与材料组合及界面条件相符的偏移证据或经验输入,不能把孤立材料亲和能相减当作已测量值。3

成立条件 亲和能若作为能量输入则不额外乘q;若采用电势单位须先换算;理想图不自动包含界面偶极、反应或缺陷修正

定义

功函数控制接触前费米位置而非等同于亲和能

电子亲和能从导带底量到真空能级,功函数从费米能级量到真空能级;掺杂改变费米位置时功函数可以变化,不能把功函数差直接当作导带阶。23

成立条件 使用相同真空能量参考;此处不把重掺杂带隙变窄纳入固定带隙近似

静电与材料边界

边界

改变掺杂的静电弯曲不能冒充材料带阶改变

在带隙与亲和参数不随掺杂变化的非简并理想模型中,掺杂改变内建势及其两侧分配,而局部材料带阶保持该模型的输入值;比较远离界面的导带高低差会把带弯曲混进偏移。23

成立条件 固定组分、温度、应变和界面模型;重掺杂、界面电荷变化等超出固定参数前提

边界

无界面面电荷时连续的是电位移而非电场

理想无面电荷异质界面要求法向电位移连续;两侧介电常数不同,电场一般不连续。若模型加入界面电荷,必须改用相应的位移跳变条件,不能继续强制两侧电场相等。34

成立条件 法向方向及界面电荷正负号须在求解器中一致;面电荷与界面偶极造成的势阶不是同一输入

机制

界面态要求回到含电荷的能带自洽问题

存在带电界面态时,原来无界面态的Anderson能带图需要修正;界面占据改变空间电荷与弯曲,不能把所有偏离都塞进一个新的固定导带阶。24

成立条件 区分陷阱电荷、材料偏移和外加电压;不把某一历史表面钉扎能级当作所有异质界面常数

带边对齐

定义

I型对齐把较低导带与较高价带放在同侧

I型异质结的一侧同时具有较低导带底和较高价带顶,因此电子与空穴的低能定位区域可处于同一种材料;这是带边对齐分类,不由两侧掺杂均为n型或p型决定。13

成立条件 先统一电子能量纵轴;只说明能带定位趋势,不保证实际注入或发光效率

定义

II型对齐的载流子定位分属两种材料

II型交错对齐中,较低导带底与较高价带顶分别位于不同材料;因此带边最低能位置在空间上分开,但实际占据仍受偏置、统计与界面状态约束。13

成立条件 不从II型名称推出唯一电流机制;本条不重复LED量子阱内极化导致的波函数分离

边界

III型破缺带隙是跨材料带边相互重叠

III型对齐要求一种材料的导带底低于另一材料的价带顶;它是跨材料带边的重叠,不能描述成每种材料自身的禁带宽度变为负值。13

成立条件 比较同一能量参考下的界面带边;仅有带边重叠不等于已经证明可观的隧穿电流

材料与表征

边界

应变状态是偏移数据的一部分而不是生长附注

赝晶层的应变可改变能谷与价带分裂,因此使用带边及偏移参数时要注明应变、取向与松弛状态;不能直接把松弛体材料参数当作受应变界面的全部能带输入。2

成立条件 只讨论应变对能带参数的后果,不重复临界厚度生长总览;未引入具体材料未经核验的形变势常数

边界

突变与渐变界面需要不同的带边空间描述

突变模型把变化集中于界面,组分渐变则把带隙与带边变化分布在有限厚度内;用一个界面偏移数字不能代替渐变区的实际组分和势垒剖面。13

成立条件 渐变长度必须与器件输运尺度一起说明;不采用旧教材关于渐变研究程度的时代性判断

边界

单层尺度界面不能只凭名义快门切换认定理想突变

在超薄异质层中,偏析会使一种组分进入后续层,实际带边剖面未必是名义方波;应结合真实组分空间证据定义模型,而不是只按沉积时序给出零宽界面。1

成立条件 原子级层厚时层与界面的区分开始模糊;STEM或STM观察是结构证据,不能单独等同于电学带阶测量

出处

4 份资料 · 21 处引用
  1. 1

    The Physics of Semiconductors

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  2. 2

    半导体物理学(第8版)

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  3. 3

    Physics of Semiconductor Devices

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  4. 4

    Simulation of Heterojunction Bipolar Transistors — Boundary Conditions

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本页结论均已对照来源核对,其中 3 条目前只有一个来源,尚未经过同行专家审阅。发现不准确的地方,请告诉我们。

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