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半导体开放世界

封装基板的积层与微通孔

Build-up Package Substrates and Microvias也称 积层封装基板、Build-up Substrate

用积层铜布线和微通孔,把芯片侧细间距端口转换为板级可装配的连接。

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速览

约 1 分钟

封装基板是有层次的电连接和机械承载结构,而不只是芯片下面的一块板。芯板、积层、微通孔、阻焊和表面处理各自约束布线、厚度与装配。

系统理解

约 2 分钟

芯片焊盘、封装端子和系统板之间存在不同尺度。积层基板把导体与介质逐层建立,并通过微通孔形成垂直连接;有芯结构用芯板承担部分刚度和贯穿互连,无芯结构则把更多能力放在薄积层与制造载体上。

层数、孔径与线宽不能分开看。增加层数可以增加路径选择,但过孔落盘、参考面、可靠性和装配翘曲仍会限制可用布线。减薄或取消芯板可能改善部分互连寄生参数,却同时增加热机械与制造处理要求。

承接BGA和倒装互连,进一步连接微凸点、封装翘曲与三维集成的载板设计。

关键参数

关键参数
参数单位含义
层叠记号—按芯板上方、芯板、下方划分布线层
线宽/线距μm约束同层布线和隔离能力
微通孔/落盘μm共同决定层间连接和可用逃逸空间
基板总厚度mm影响垂直路径、搬运和热机械响应

常见误区

  • 层数相同就表示可布线能力相同。
  • 无芯基板没有介质或不需要机械支撑。
  • 厂商最小设计规则可以无条件组合成任意产品。

工程深入

12 条结论 · 1 道例题

截面与连接层次

定义

基板的任务是连接不同尺度的端口

封装基板把裸片或转接板一侧的细间距连接,引到封装外侧端子;导体、介质和孔共同形成信号与电源通路。它既不同于裸片上的金属互连,也不等同于整块系统PCB。12

成立条件 本条讨论带有封装基板的BGA或倒装结构;不宣称每一种封装都必须存在独立基板。

机制

芯板与积层承担不同的垂直连接尺度

常见有芯积层结构在芯板内使用贯穿孔,在芯板两侧建立较薄介质和铜布线,再用微通孔连接相邻布线层。不能把芯板贯穿孔和积层微通孔当成尺寸、长度与工艺都相同的孔。13

成立条件 截面结构随厂商与产品变化;并非所有孔都贯穿整个基板。

积层制造与布线

机制

半加成布线由局部电镀和去除背景种子层完成

一种典型半加成流程先在基材上建立导电种子层,用光刻胶限定要增厚的铜线区域,电镀后去胶,再去除未受保护的背景种子层。只看见电镀步骤,不能解释相邻铜线最终如何电隔离。1

成立条件 这是教材图示的一种流程;种子层、介质与图形工艺可随平台改变,不是统一制造配方。

公式

层叠记号统计布线层而不是介质片数

按a-b-c记号约定,a和c分别表示芯板上、下的积层金属层数,b表示芯板的金属层数,总数为三者之和。相同总层数仍可有不同的芯板厚度、上下分配及孔结构。13

N=a+b+cN=a+b+c
N = a + b + c
NN
记号所统计的金属布线层总数无量纲
aa
芯板上方积层金属层数无量纲
bb
芯板内部金属层数无量纲
cc
芯板下方积层金属层数无量纲

成立条件 必须先确认所用厂商的记号定义;该计数不自动计入另加薄膜RDL、阻焊或焊点。

例题:动手算一次教学假设,可复算

按上述记号约定,4-2-4和3-4-3各有多少层金属布线?能否因此认为二者结构相同?

已知

  • 按教材记号计数,不包含额外RDL或阻焊。

步骤

  1. N₁ = 4+2+4 = 10;N₂ = 3+4+3 = 10分别将上方积层、芯板金属层与下方积层相加。
结果 两种记号均为10层金属布线,但芯板与积层分配不同。

总层数只是结构描述的一项,不能替代孔型、厚度和实际布线设计。

适用边界 其他厂商的复合记号应先查其定义,不能直接套用。

边界

微通孔的孔与落盘共同占用布线面积

微通孔提供垂直导通,落盘与周围安全间距则占用所在层的面积;采用填孔或堆叠连接会改变可选连接方式。缩小铜线线宽并不能独自消除过孔对逃逸布线的限制。13

成立条件 具体孔径、落盘、堆叠和对准规则必须由相应制造平台确认;本条不提供通用最小值。

有芯与无芯的取舍

定义

无芯删除的是厚芯板而不是所有绝缘层

无芯基板仍由铜布线与绝缘积层构成,只是不再保留传统厚芯板。它仍需满足电隔离和层间连接要求,不能把“无芯”解释成没有介质或没有基板。34

成立条件 这里的core指传统刚性芯板;不同无芯平台的层数和材料并不完全相同。

机制

无芯制造把支撑任务交给临时载体与后续工装

薄无芯积层在制造中可先依附临时载体,完成积层后再分离;失去载体后,搬运与装配工装必须适应更低的刚度。取消最终芯板并不意味着制造过程也不需要支撑。4

成立条件 临时载体及分离工艺因平台而异;不能由示意流程推断所有材料或脱载条件。

关联

较短的垂直路径是电气收益的条件之一

取消或减薄厚芯板可以缩短部分层间通路,并为细间距连接提供更多布线选择;寄生电感与阻抗的改善仍取决于回流路径、参考面和具体几何,不能把“无芯”当作任意频率下都更好的保证。45

成立条件 比较必须使用相同的端口和边界;引用平台的电气结果不代表所有无芯产品。

机制

减薄后铜与阻焊不能继续当作可忽略附件

芯板变薄时,铜布线、阻焊和积层介质在总厚度与力学响应中的相对贡献上升。此时直接沿用厚芯板的等效材料参数,可能漏掉铜密度、聚合物和制造残余状态的影响。46

成立条件 应使用完成后复合基板的温度相关参数;不把某一试样的体积分数当作普适值。

设计与验证边界

机制

薄膜RDL与常规积层可以承担不同的布线密度

在常规积层基板表面增加较细薄膜RDL,可把最细的芯片侧扇出与较粗的主体布线分开。表面平坦化、种子层和光刻、电镀必须与这种混合结构一起考虑,不能只增加一行最小线宽就认为完成集成。1

成立条件 教材案例是特定平台;其RDL尺寸、层数和历史成本判断不直接用作当前通用规格。

边界

相同层数并不保证相同扇出能力

可用扇出路径还受线宽/线距、孔与落盘、信号参考层以及电源地分配约束。评估基板应同时查看截面与设计规则,而不能用金属层总数替代实际布线可达性。23

成立条件 本条用于比较设计自由度,不根据目录上的最小数值推算实际可用I/O上限。

边界

基板验证结果必须连同结构和试验条件阅读

基板的通过结果应绑定实际材料栈、装配状态、温湿度、偏压与循环程序。某个积层样件通过测试,并不意味着同名结构的所有基板、焊点或封装都具有相同寿命。12

成立条件 仅解释试验外推边界,不把网页或教材历史资格项目视为现行统一标准。

出处

6 份资料 · 21 处引用
  1. 1

    集成电路三维系统集成与封装工艺

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  2. 2

    FCBGA: Package Options and Reliability

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  3. 3

    Semiconductor packages substrates: Rigid / Build-up / Core-less

    查看这个来源 →
  4. 4

    Warpage Issues and Assembly Challenges Using Coreless Package Substrate

    查看这个来源 →
  5. 5

    SHINKO Substrate Line-up

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  6. 6

    Evaluation of Raw Substrate Variation from Different Suppliers and Processes and their Impact on Package Warpage

    查看这个来源 →

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