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半导体开放世界
其他资料

Oxide Charging Damage in Integrated Circuit Processing Investigated with a Coupled Plasma/IC Device Model

William George En

类型
其他资料
作者
William George En
出版
University of California, Berkeley；UCB/ERL M96/35 · 1996
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  1. 第 10 章，印刷第114页

  2. 第 10 章，印刷第115–116页，式10-1至10-3

  3. 第 10 章，印刷第115页

  4. 第 10 章，印刷第118页

  5. 第 10 章，印刷第119页

  6. 第 10 章，印刷第122页