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半导体开放世界

晶胞、晶向晶面、面密度与倒易空间

Unit Cells, Crystal Directions, Planes, Planar Density and Reciprocal Space([uvw] / (hkl) / {hkl} / d(hkl))也称 米勒指数、晶面指数、晶向指数、面密度、倒易晶格、Miller-Bravais指数

晶向与晶面用不同的直接/倒易空间对象表示;它们把原子排列转换为可用于衬底取向、刻蚀、滑移、外延、衍射和器件各向异性的工程坐标。

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速览

约 1 分钟

[uvw]表示直接晶格方向,(hkl)表示一组晶面的取向,尖括号和花括号表示对称等价族。只有立方正交情形可方便地把[hkl]视为(hkl)法向;六方晶体通常使用四指数(hkil),其中i=−(h+k)。

系统理解

约 3 分钟

晶格是平移对称的数学点阵,晶胞是其选定重复单元,基元则是附着在每个格点上的原子集合。原胞体积最小但不一定最直观,常规晶胞突出对称性却可包含多个格点;计数原子、体密度或衍射消光时必须说明选择。

晶向[uvw]由直接晶格基矢的线性组合给出,晶面(hkl)由轴截距倒数化为整数表示。晶面族{hkl}和晶向族<uvw>汇集对称等价成员。倒易矢量G=h a*+k b*+l c*垂直于相应晶面族且模长与面间距互为倒数,因此衍射、外延取向和表面坐标能在同一语言中连接。

原子面密度不是材料的单一常数,而取决于结构、晶胞选择和具体晶面。金刚石结构的(100)、(110)、(111)表面具有不同原子排列、悬挂键和重构倾向,进而影响氧化、刻蚀、外延、界面态和器件沟道取向。二维投影必须避免重复计数边界原子。

六方纤锌矿和六方SiC需要区分c面、m面、a面与半极性面,方向与平面的三指数简写易造成歧义。取向标签必须与极性、偏切角、晶圆正反面和测量坐标一同记录;名义同为(0001)的Ga极/N极表面可具有不同化学与器件行为。

深化晶体结构基础,向后连接晶圆取向、外延、各向异性工艺、XRD/TEM表征、SiC压阻和失配位错。

公式提示

立方晶体面间距d_hkl=a/√(h²+k²+l²);一般晶系应使用倒易度量张量。六方四指数满足i=−(h+k),不能把立方晶系的方向—法向关系直接套用。

关键参数

关键参数
参数单位含义
直接晶格基矢与晶胞体积nm / nm³定义平移和原子密度计数
[uvw]、(hkl)、<uvw>与{hkl}—区分方向、平面及其对称族
面间距、面密度与倒易矢量nm / nm⁻² / nm⁻¹连接原子排列和衍射
偏切角、极性与表面终止° / — / —限定实际晶圆表面
刻蚀率、氧化率、迁移率与滑移系nm·min⁻¹ / nm·min⁻¹ / cm²·V⁻¹·s⁻¹ / —验证取向的工程后果

常见误区

  • [hkl]与(hkl)在任何晶系都相同
  • 一个晶胞图中看到的原子数就是每晶胞有效原子数
  • 同族晶面在有外场或极性时总是物理等价
  • 面密度只由晶格常数决定与基元无关
  • 六方晶体可以始终无损地用三指数描述

工程深入

12 条结论 · 1 道例题

对象分离

定义

晶格晶胞与基元是三个不同对象

晶格描述平移点阵,晶胞选取重复区域,基元给出附着于格点的原子集合;原子结构由晶格加基元构成。12

成立条件 晶胞选择明确;原子占位完整

晶胞计数

边界

常规晶胞中的边界原子必须按共享比例计数

顶点、棱、面和内部原子分别由相邻晶胞共享不同份额,图中圆点总数不等于每晶胞有效原子数。12

成立条件 周期边界;占位率已知

晶向

定义

[uvw]是直接晶格中的方向而不是晶面标签

方向矢量由u、v、w倍直接基矢构成;<uvw>表示由晶体对称性关联的一族方向。13

成立条件 基矢和正负方向已定义;约分规则与晶胞选择一致

晶面

定义

(hkl)由晶面与晶轴截距的倒数比例定义

平行于某轴对应该轴截距无穷大和指数零,负截距用上划线负指数表示;{hkl}表示对称等价晶面族。13

成立条件 平面族而非单一平移面;坐标原点选择不穿过待求面

面间距

公式

立方晶体面间距由晶格常数和米勒指数决定

在立方正交晶胞中,指数平方和越大通常对应更小面间距;一般晶系需使用倒易度量。12

dhkl=ah2+k2+l2d_{hkl}=\frac a{\sqrt{h^2+k^2+l^2}}
d_hkl=a/√(h²+k²+l²)
a
立方晶格常数,单位 nm
d_hkl
相邻(hkl)晶面间距,单位 nm

成立条件 立方晶系;晶格常数a

例题:动手算一次教学假设,可复算

晶格常数a=0.543 nm的立方Si,其(111)面间距约多少?

已知

  1. a=0.543 nm
  2. h=k=l=1

步骤

  1. d111=0.543/√3,代入立方面间距公式。
  2. d111≈0.3135 nm,完成数值计算。
结果 约0.314 nm。

该间距可与衍射峰位置对应。

不能外推到 只适用于立方晶格的几何间距;真实衍射还受波长、应变、仪器、结构因子和峰形影响。

倒易空间

关联

(hkl)晶面族对应一个法向倒易矢量

G=h a*+k b*+l c*的方向垂直晶面族,模长与面间距互为倒数,从而把真实晶面连接到衍射。12

成立条件 倒易基矢约定一致;不混淆2π因子约定

方向法向边界

边界

[hkl]垂直(hkl)只在特定正交晶系中直接成立

一般晶格直接基矢与倒易基矢不同,方向指数和晶面法向不能按相同三个数机械等同。13

成立条件 晶系和度量已知;坐标基底明确

六方四指数

公式

六方晶面四指数满足h+k+i=0

第三个基面指数i不是独立变量,四指数保留三个等价a轴的六方对称性。13

i=−(h+k)i=-(h+k)
i=−(h+k)
h,k,i,l
六方晶面四指数,单位 —

成立条件 六方Bravais-Miller表示;a1、a2、a3、c轴已定义

面密度

定义

原子面密度是指定结构和晶面的单位面积有效原子数

计算需把落在二维重复单元边界的原子按共享份额计数,并包含基元而不仅是Bravais点阵。13

成立条件 表面二维原胞已选;表面终止明确

表面工程

关联

晶面原子排列会改变刻蚀氧化外延和界面态

悬挂键、台阶、极性和面密度改变表面反应与成核,所以晶圆取向是工艺输入而非标签。13

成立条件 表面清洁和重构可追溯;偏切角与终止记录

极性

边界

同一几何取向的相反极性表面不保证化学等价

Ga极与N极等相反终止可改变生长、刻蚀、接触和缺陷行为,必须同时记录晶面和极性。14

成立条件 非中心对称极性晶体;终止经测量确认

计量闭环

关联

取向需由XRD或电子衍射与表面标记共同确认

名义晶圆规格可能含偏切、双畴或局部倾斜,衍射、EBSD/TEM和晶圆平边坐标共同建立实际取向。12

成立条件 测量坐标可回溯;仪器误差和索引规则公开

出处

4 份资料 · 6 处引用
  1. 1

    微纳制造与半导体器件

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  3. 3
  4. 4

    First Principles Phase Diagram Calculations for the Wurtzite-Structure Systems AlN-GaN, AlN-InN and GaN-InN

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