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半导体开放世界
其他资料

In-situ monitoring of etch uniformity using plasma emission interferometry

Vladimir Samara; Jean-François de Marneffe; Ziad el Otell; Demetre J. Economou

类型
其他资料
作者
Vladimir Samara; Jean-François de Marneffe; Ziad el Otell; Demetre J. Economou
出版
University of Houston / imec；Journal of Vacuum Science & Technology B 33,031206 · 2015
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  1. 原论文PDF第1、3页，印刷031206-1、031206-3，引言与背景光讨论

  2. 原论文PDF第1页，印刷031206-1，式(1)与引言

  3. 原论文PDF第2页，印刷031206-2，实验与讨论

  4. 原论文PDF第3页，印刷031206-3，实验与讨论